Polarized Zeeman Correction Method

Hollow Cathode Lamp 만을 이용한 배경 보정

영구 자석을 사용하는 Polarized Zeeman Correction Method (편광 지만 보정법)은 안정된 기준선을 제공하며, 인접 파장에서 흡수를 나타내는 공존 물질의 영향을 억제하여 신뢰성이 높은 분석을 가능하게 합니다.

Dual Detector Method

채광량 증가 및 노이즈 감소

이중 검출 방식은 시료광과 기준광을 각각 독립된 검출기로 측정하여 기준선 노이즈를 줄여줍니다. 또한 두 빛을 동시에 검출함으로써 보정의 정확도를 더욱 향상시킵니다.

넓은 배경 검출 범위

편광 제만 보정법으로 모든 원소 커버

자외선 영역이나 가시광선 영역에서 흡수를 나타내는 원소에 대해서도 배경 보정이 가능합니다. 편광 제만 보정법은 보정 방법 중 하나로, 원소별로 따로 선택할 필요가 없다는 장점이 있습니다. 또한 D₂ 램프 보정법으로는 보정할 수 없는 나트륨(Na)과 칼륨(K) 같은 원소까지도 보정할 수 있습니다.

고정밀·고속 측정을 실현하는 Rapid Sequential Mode (ZA4800)

최대 12개 원소의 순차 측정과 더욱 빨라진 속도 제공

히타치는 기존의 편광 제만 보정법에 새롭게 개발된 회절 격자 구동 메커니즘을 결합하여 측정 속도를 한층 더 향상시켰습니다. 이를 통해 Flame 방식으로 동일한 시료 내 여러 원소를 측정하는 사용자에게 훨씬 더 빠른 분석을 제공합니다.

Flame 분석

안정된 기준선으로 고감도 분석 실현

편광 제만 보정법을 통해 안정적인 기준선을 확보할 수 있으며, 추가 액세서리 없이도 저농도 분석을 고감도로 수행할 수 있습니다.

Graphite Furnace 분석

원자화기 프로파일의 일괄 표시

시간 경과에 따라 흡광도와 배경 신호가 표시되어 시료 간 차이를 한눈에 확인할 수 있습니다. 특히 배경 측정의 경우, 건조 및 회화(ashing) 과정에서도 배경 보정이 적용되므로 측정 원소의 산란을 모니터링할 수 있습니다. 아래 도표는 1200 °C 회화 온도에서 마그네슘이 산란되는 것을 확인한 프로파일을 보여줍니다. 회화 과정에서 발생하는 산란은 회화 온도를 900 °C로 낮춤으로써 제거할 수 있으며, 재현성이 우수한 흡광도를 얻을 수 있습니다. 또한 매개변수 설정을 보다 세밀하게 구성하고자 하는 사용자는 건조 및 회화 배경 신호의 설정값을 참고할 수 있습니다.